【菜科解读】

你制作幻灯片时，是否依旧是使用一页一页插入图片的方法设置背景了?如果是这样的话，那就太需要耐心了。

WPS有自助设置母版的功能，掌握以后只需三步就可以完成所有幻灯片的背景设置啦!以下是详细操作步骤。

操作步骤

1、新建一个WPS演示文件，点击“视图”——“母版”——“幻灯片母版”。

2、此时，点击“插入”——“图片”，就像平时我们插入图片一样，把图片从文件夹中插入到幻灯片中。

然后点击图片的角，用鼠标拉拽一下，调整图片的大小，让图片覆盖整个幻灯片。

3、点击“关闭母版”。

背景设置就完成了，文本框自动浮在图片上了。

这样我们就省去了一页一页插入图片的麻烦，轻松3步就完成。

古中国酿造配方因密封青铜瓶的发现而被揭示

（a）古代酒精饮料发掘遗址;（b）延村墓地的古老酒精饮品;（c）善家堡墓地的古酒。

图片来源：《考古科学杂志：报告》（2026年）。

DOI： 10.1016/j.jasrep.2026.105738据Science X Network（桑朱克塔·蒙达尔）：在中国善家堡墓地边缘的一座墓穴深处，研究人员发现了一个密封严密的青铜瓶，瓶口独特，呈大蒜形状。

容器内有一种神秘液体，沉积了两千多年未被触碰，结果发现是一种基于谷物的酒精饮料。

化学分析揭示了以下线索：液体中含有高浓度的乳酸和草酸，但几乎没有酒石酸。

这告诉研究人员，这种酒精液体并非果酒，而是一种由谷物酿造的饮品。

当他们用高分辨率显微镜仔细观察液体时，发现了数十万个微小的谷物颗粒，其中一些被鉴定为扫帚玉米、小米、小麦和大麦。

他们还在液体中发现了酵母细胞，表明该液体长期以来一直被用来启动酿造过程的发酵。

这些发现发表在《考古科学杂志：报告》上。

中国的酿酒习俗可以追溯到石器时代。

迄今为止发现的最早酒精饮品证据出现在浙江省上山遗址，距今约9000至10000年。

结合现存的习俗、文献和考古证据，中国酿酒师主要采用两种方法：以发芽谷物为发酵剂的聂氏法，以及以发霉谷物或草药为原料的曲氏法。

北方偏好的粮食是扫帚粟，而南方则偏爱稻米。

古老土壤中识别的有机化合物通过非靶向代谢组学检测到的控制土壤样本。

（a） 文恩;（b）化合物的类别。

图片来源：《考古科学杂志：报告》（2026年）。

DOI： 10.1016/j.jasrep.2026.105738多年来，研究古代中国酒精的科学家们只能依赖陶器中残留的淡淡残留物，而非饮品本身，导致许多早期酿造方法和传统的细节不详。

善家堡墓地的发掘中，考古学家发现了183座属于战国时期（公元前475–221年）的墓葬，意外地中了大奖：一个青铜瓶中了3740毫升清澈的淡蓝绿色无味液体，瓶底还沉积着一层沉积物。

研究人员认为，这种液体之所以保存得很好，是因为采用了两层密封方法，使用了纺织和一种叫做泥布的粘性物质。

研究人员采集了部分液体和沉积物，用于化学指纹识别、利用傅里叶变换红外光谱（FTIR）和质谱技术定量有机酸。

研究人员取了六种现代酒精饮料——两种葡萄酒和四种谷物米酒黄酒——用高温陈酿180天，作为参考样品，观察其化学特征随时间的变化。

科学家们分析了饮料的化学特征，并将结果输入机器学习模型，与超过2000个样本的数据库进行了比较。

结论是，这种古老的液体确实是一种含酒精饮料。

除了检测到谷物中常见的高乳酸和草酸外，化学分析还鉴定出超过2400种有机化合物，包括氨基酸和糖类。

显微镜分析发现了超过10万种淀粉谷物，其大小和形状使科学家能够识别出饮品中使用的作物。

结果显示，它主要用了扫帚粟（92%）酿造，少量小麦或大麦（8%）。

他们还发现了超过8500个酵母细胞，进一步证明该液体已被发酵成酒精。

小麦和大麦谷物显示出物理损伤迹象，表明它们被磨碎加热过。

这表明战国时期的酿酒师采用了qu法，这是一种传统的发酵发酵剂制作方法。

这些发现揭示了具体的菌粒、隐藏在化学特征中的风味特征以及可能的酿造技术，这让我们更接近理解古代中国秦人所使用的酿造技术的完整故事。

在这些发现的指导下，专家们有望找到更好地保护文化遗产的方法，并将古代酿酒知识应用于现代精酿和传统食品。

出版信息陈如如等，《基于考古证据破译战国时期（公元前475-221年）秦国酒类与酿造习俗》，《考古科学杂志：报告》（2026年）。

DOI： 10.1016/j.jasrep.2026.105738

世界上最先进的光刻机是中国还是美国生产的？

一、目前最先进的机型EUV（极紫外）光刻机：全球只有 ASML 能造，垄断 100% 市场。

用于7nm、5nm、3nm等最先进芯片制程。

单台价格1.5 亿–2 亿美元，重量超 180 吨，零件超 10 万个。

二、美国的角色美国不生产整机，但控制核心零部件：EUV 光源：由美国Cymer（被 ASML 收购）独家提供。

精密光学、关键软件、部分高精度传感器：美企主导。

美国靠技术 + 出口管制，阻止 ASML 向中国出售 EUV 光刻机。

三、中国的现状中国最先进光刻机：上海微电子 SSA600 系列，最高支持90nm工艺，与 EUV 相差5 代以上。

正在攻关28nm DUV 浸没式，预计 2026–2027 年量产，可用于成熟制程芯片。

尚无 EUV 研发能力，核心光源、光学系统、精密工件台仍被 “卡脖子”。

四、一句话总结整机制造：荷兰 ASML（唯一 EUV）核心技术：美国深度掌控中国：追赶中，成熟制程有望突破，高端 EUV 仍空白