一、目前最先进的机型EUV（极紫外）光刻机：全球只有 ASML 能造，垄断 100% 市场。

用于7nm、5nm、3nm等最先进芯片制程。

单台价格1.5 亿–2 亿美元，重量超 180 吨，零件超 10 万个。

二、美国的角色美国不生产整机，但控制核心零部件：EUV 光源：由美国Cymer（被 ASML 收购）独家提供。

精密光学、关键软件、部分高精度传感器：美企主导。

美国靠技术 + 出口管制，阻止 ASML 向中国出售 EUV 光刻机。

三、中国的现状中国最先进光刻机：上海微电子 SSA600 系列，最高支持90nm工艺，与 EUV 相差5 代以上。

正在攻关28nm DUV 浸没式，预计 2026–2027 年量产，可用于成熟制程芯片。

尚无 EUV 研发能力，核心光源、光学系统、精密工件台仍被 “卡脖子”。

四、一句话总结整机制造：荷兰 ASML（唯一 EUV）核心技术：美国深度掌控中国：追赶中，成熟制程有望突破，高端 EUV 仍空白